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隨著納米技術(shù)、微電子學(xué)以及材料科學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展，對(duì)于表面處理技術(shù)的要求日益提高。等離子清洗作為一種高效且環(huán)保的技術(shù)，在這些領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。本文將從清潔效率...
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隨著科技的不斷進(jìn)步，清洗技術(shù)在工業(yè)制造和科研領(lǐng)域的重要性日益凸顯。等離子清洗機(jī)作為一種高效、環(huán)保的表面處理設(shè)備，近年來(lái)受到了廣泛關(guān)注。本文將詳細(xì)闡述國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)相比之前的優(yōu)點(diǎn)，并解釋其背后的技術(shù)原理和應(yīng)用前景。一、技術(shù)創(chuàng)新與性能提升1.先進(jìn)的能量轉(zhuǎn)換技術(shù)國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)采用了先進(jìn)的能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，通過(guò)電能激發(fā)氣體，形成高活性的等離子體。這些等離子體能輕柔沖刷樣品表面，改變分子結(jié)構(gòu)，達(dá)到超清洗的效果。這種技術(shù)不僅提高了清洗效率，還避免了對(duì)樣品表面的損傷，確保了材料的完整性和功...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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